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腐蚀性气体分析质谱仪
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便携式膜进样质谱仪
DECRA 气体分析质谱仪
QGA 定量气体分析质谱仪
HPR-20 R&D 研究级在线气体分析质谱仪
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HPR-20 TMS 瞬变过程气体分析质谱仪
HPR-40 MIMS 膜进样质谱仪
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QIC BIOSTREAM 生物发酵多路气体分析质谱仪
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残余气体分析四极质谱仪
超高真空残余气体分析四极质谱仪
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分子束外延沉积速率监测/控制系统
托卡马克装置残余气体分析质谱仪
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IDP离子/分子分析质谱仪
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离子源
飞行时间二次离子质谱仪 TOF-SIMS
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EQP等离子体质量和能量分析质谱仪
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二次离子质谱工作站
二次离子质谱探针
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铯离子枪
Ar/O2离子枪
激光分子束外延镀膜系统
MBR 气体膜分离测试仪
ABR 竞争性气体吸附分析仪
IGA-智能重量法吸附分析仪
水分吸附仪
高压气体吸附仪
磁悬浮天平高压吸附仪
催化微反应器–质谱仪
QGA-定量气体分析质谱仪
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常压分子束取样质谱仪
热重分析质谱仪
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VOCs走航监测仪
VOCs 和大气自由基分析-质子转移反应飞行时间质谱仪 PTR3-TOF
小型在线VOCs质谱仪 PTR-QMS 300
质子转移反应飞行时间质谱仪 PTR-TOF 1000
PTR-TOF 1000 Ultra
质子转移反应飞行时间质谱仪 PTR-TOF 4000
质子转移反应飞行时间质谱仪 PTR-TOF 6000 X2
可选择性离子源
气体自动定标校准系统
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FastGC-快速气相色谱
PTR-MS 多路进样器
NASE-鼻腔采样器
DEMS 电化学质谱仪
高压导热系数分析仪
导热系数测试仪
高纯气体分析
相变材料导热系数测试方法
PLD MBE激光分子束外延镀膜系统的主体是一个UHV激光分子束外延装置。使用准分子激光进行基底加热;脉冲激光做为幅照源。使用两个组合的掩膜和一个扫描式的反射高能电子衍射(RHEED)设备,系统能同时制备很多样品(250个/10mm2)。每个样品都是原子级的控制,可以设置不同的生长条件。在UHV中使用激光辐照的组合的掩模和靶材。 这个组合膜沉积的概念,是由于使用分离的基底、小区域的掩模和每个样品不同的生长参数导致的沉积条件的系统变化。最显著的贡献就是可以快速地筛选生长条件。
·精准层蔽控制原子
·层外延膜结构或形态
·均匀或梯度的快速
·振荡信号需依成膜条件和成膜品质
·专业LabView提供全自动制程数字控制
·9项日本专利、3个国际专利
·激光加热: 温度 >1000℃)
·高压可操作: ~133Pa
·6种靶材的公转和自转
·镀膜腔真空度: ~5e-9Torr
·Load-Lock腔: ~5e-7 Torr 可放置两个样品以及四个靶材
·全自动数字控制