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型号:AutoSIMS

AutoSIMS:企业级全自动表面分析工作站

描述:Hiden AutoSIMS全自动二次离子质谱仪,专为企业多样品高通量分析设计。24/7无人值守运行,可装载96个样品,支持纳米级深度剖析和3D成像。操作简单,非专业人员亦可轻松上手。

  • 厂商性质

    英国进口
  • 更新时间

    2026-06-06
  • 访问量

    6
详细介绍

Hiden AutoSIMS是一款完全自主运行的全自动二次离子质谱仪(SIMS) ,专为企业级的常规表面分析和批量样品检测而设计。

无论是质量监控(QC)、产品在线检测、失效分析(FA),还是材料研发中的高通量筛选,AutoSIMS都能在无人值守的情况下24/7全天候高效运行,每天可完成数百个样品的分析任务。

AutoSIMS基于Hiden Compact SIMS紧凑、经济的基础架构,同时引入了模块化卡盒样品架全自动高精度X-Y样品台,将自动化水平提升到工业级应用标准。

核心特点

特点说明
全自动无人值守运行24/7连续工作,每天可分析数百个样品,大幅提升实验室产出效率
高通量样品装载模块化卡盒样品架,最多可同时装载96个样品,系统自动完成逐个分析
纳米级深度剖析静态和动态SIMS模式,深度分辨率达纳米级
3D元素成像SIMS Mapper软件支持数据堆栈重建和3D浓度分布可视化
操作极其简单非专业人员通过Excel表格即可定义分析点位和参数
灵活的双模式支持全自动批量运行;高级用户也可手动操作,发挥全部技术潜力
模块化维护设计易维护结构,设备可靠性和在线率极高
体积紧凑,安装灵活占位面积小,仅需标准电源和单相电(<10A),几乎可放置于任何场地

典型应用场景

应用领域具体用途
半导体掺杂分布分析、表面污染检测、工艺验证
光伏/太阳能薄膜电池层结构分析
金属/玻璃镀层镀层成分、厚度、均匀性检测
新材料研发多层膜结构表征、纳米材料分析
失效分析污染物溯源、粘接失效分析
质量监控生产线批量样品抽检、工艺稳定性监控
表面改性离子注入分析、涂层质量评价

为什么选择AutoSIMS?

  • 面向企业用户的定位:AutoSIMS是为批量样品、常规化分析而设计的,强调自动化、高通量和低人员技能门槛

  • 极低的总拥有成本(TCO):相比同级别自动化SIMS系统,AutoSIMS在购置成本、维护成本和运营成本方面具有明显优势

  • 人效革命:一个操作员可同时管理多台AutoSIMS,专注于结果分析而非设备操作,极大释放人力资源

  • 快速部署:无需专用氮气吹扫,抽真空仅30–40分钟;占地小,标准电源供电,对实验室基础设施要求低

  • 非专业人员也可操作:支持Excel表格配置参数,培训周期不到一天即可完成从样品上机到报告输出的全流程操作

  • 灵活的扩展性:专家用户可访问全部SIMS参数,兼顾研发和高端应用的深度需求

适合采购AutoSIMS的企业类型

  • 半导体晶圆厂、器件制造商:需要进行掺杂分布和表面污染常规检测

  • 光伏企业:薄膜太阳能电池各层结构的批量深度剖析

  • 镀膜代工厂:镀层厚度和成分的日常质量监控

  • 第三方检测与失效分析实验室:多客户、多类型样品的快速分析和报告出具

  • 材料研发中心:高通量实验样品的表面成分筛选

标准配置清单

  • 不锈钢高真空多口分析室

  • MAXIM 600 P四极杆SIMS/SNMS分析器

  • IG-20氧/氩主离子枪

  • 全自动X-Y样品台

  • 模块化卡盒样品架(最多96样品)

  • 涡旋泵+涡轮分子泵组(2套)

  • SIMS数据系统(高性能PC + 双显示器)

  • MASsoft SIMS + IG-20控制软件 + SIMS Mapper成像软件

  • 潘宁规(总压真空监测与联锁保护)

  • 备件包(SNMS灯丝、IG-20灯丝、真空密封件等)

可选配件

  • 铯离子源(用于高电负性元素分析)

  • 负离子检测模式

  • 扩展质量范围(最高1000 amu)

  • 更多样品架规格

  • 定制化数据报告格式

相关资源与参考

用户案例(部分):

  • 某全球领先太阳能电池厂商——采用AutoSIMS进行薄膜层结构批量分析

  • 半导体IDM企业——用于生产线掺杂和污染物的日常监控

出版物参考:

  • Depth-profiling analysis of MOCVD-grown triple junction solar cells by SIMS

  • Iron and nitrogen self-diffusion in non-magnetic iron nitrides

  • Formation of iron nitride thin films with Al and Ti additives

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