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HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser),适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。
·简洁的桌上型,移动推车或控制台架结构
·质量数范围: 1~200 amu(标准配置); 300、510、1000amu可选 ·高灵敏度: 5ppb ·取样压力: 10-4mbar~1mbar 标准配置 1mbar~30bar 选配 ·稳定性好: 24h以上,小于峰高的±0.5% ·过程控制开关 ·信号输入、输出接口 Hiden HPR-30 Series Process Gas Analysers (1.2 MB) Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB) Partial Pressure Control in Reactive Sputtering (343 KB) |