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型号:XBS

分子束外延沉积速率监测/控制系统

描述:Hiden’s XBS system provides in-situ monitoring of multiple sources with real-time signal output for precise control of the deposition.

  • 厂商性质

    进口
  • 更新时间

    2020-11-23
  • 访问量

    93
详细介绍

XBS三级滤过四极质谱(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System),适于精确的MBE分析,其他气体分析和科学实验使用。Windows™ 界面的MASsoft软件通过RS232RS485 或以太网控制。

 

·离子源控制,用于软离子化和表观电势质谱
·灵敏度增强用于大质量数的传输,自动质量数范围列表

·一级过滤处增加射频,抗污染物能力增强
·内置UHV 兼容的水冷却罩

 

·灵敏度高,检测范围:  100% 5ppb

·质量数范围:              0~ 510amu
·长期稳定性:              24h以上,峰高变化小于±0.5%)
·交叉离子源,束接收角同轴的横断面呈 ±35°
·2mm 束接受孔,也可为特殊使用者配置
·分子束研究中,检测极限低至30 ions/s
·监测生长速率:       1Å / min,或更低

XBS Monitor for the Molecular Beam Epitaxy Process (390 KB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)


 
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