型号：IMP-EPD

等离子体刻蚀终点检测仪

描述：The IMP-EPD is a differentially pumped, ruggedised secondary ion mass spectrometer for the analysis of secondary ions and neutrals from the ion beam etch process.

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详细介绍

IMP离子蚀刻探针（Ion Milling Probe），自带差式泵，坚固的二次离子质谱仪，适于分析离子蚀刻过程中的二次离子和中性粒子。独有的专业终点检测（End Point Detection）仪器，用于离子蚀刻控制以及过程质量最优化监测。

·差式泵歧管，经连接法兰，接到过程室
·离子光学器件，带能量分析器和内置离子源
·Penning规和互锁装置，以提供过压保护
·数据系统与过程控制工具整合

·高灵敏度的 SIMS / MS，带脉冲离子计数检测器
·三级过滤四极杆，标准配置质量数为300amu
·稳定性(24h以上，峰高变化小于 ±0.5%)
·通过 RS232、RS485或以太网，软件MASsoft控制
·程控DDE, 平行数字式I/O，RS232通讯

IMP Series End Point Detectors (903 KB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)

IBM Almaden Research Center | Advanced Instrumentation

Nanodevice Fabrication : Ion Beam Nano-Fabrication

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